Mae Shaanxi BLOOM Tech Co, Ltd yn un o gynhyrchwyr a chyflenwyr hexamethyldisilazane (hmds) cas 999-97-3 mwyaf profiadol yn Tsieina. Croeso i gyfanwerthu swmp o ansawdd uchel hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3 ar werth yma o'n ffatri. Mae gwasanaeth da a phris rhesymol ar gael.
Hexamethyldisilazane(HMDS), hylif tryloyw di-liw. Mae'n hawdd hydrolyze, rhyddhau NH3, a chynhyrchu hexamethyldisilane. Ym mhresenoldeb catalydd, mae'n adweithio ag alcohol neu ffenol i gynhyrchu trimethylalkoxysilane neu trimethylaryloxysilane. Mae'n adweithio â hydrogen clorid anhydrus i ryddhau NH3 neu NH4Cl i gynhyrchu trimethylchlorosilane. Gellir ei baratoi trwy adweithio trimethylchlorosilane â NH3. Gellir ei ddefnyddio fel asiant triniaeth hydroffobig ar gyfer wyneb silica mwg ac adweithydd i ddarparu atomau N mewn adwaith synthesis organig, fel asiant ategol ar gyfer ffibrau carbid silicon, i wella ymwrthedd gwres a chryfder ffibrau carbid silicon, ac fel asiant gwrth-wlybaniaeth ar gyfer haenau. Fe'i defnyddir hefyd i baratoi cyfansoddion organosilicon.
|
|
|
|
Fformiwla Cemegol |
C6H19NSi2 |
|
Offeren Union |
161.11 |
|
Pwysau Moleciwlaidd |
161.40 |
|
m/z |
161.11 (100.0%), 162.11 (6.5%), 162.11 (5.1%), 162.11 (5.1%), 163.10 (3.3%), 163.10 (3.3%) |
|
Dadansoddiad Elfennol |
C, 44.65; H, 11.87; N, 8.68; Si, 34.80 |
Hexamethyldisilazane(HMDS)(Rhif CAS: 999 - 97-3), fel cyfansoddyn silicon organig amlswyddogaethol, wedi dangos gwerth anadferadwy mewn amrywiol feysydd megis meddygaeth, lled-ddargludyddion, synthesis organig, ac addasu deunydd oherwydd ei strwythur bond nitrogen silicon unigryw (Si-N) ac adweithedd uchel.
Mae cymhwyso HMDS yn y maes fferyllol yn cyfrif am 64%, a dyma'r adweithydd craidd ar gyfer synthesis gwrthfiotigau, cyffuriau gwrth-tiwmor, cyffuriau gwrthfeirysol, a chludwyr cyffuriau wedi'u targedu. Adlewyrchir ei werth craidd yn swyddogaethau deuol amddiffyn grŵp ac actifadu adwaith:
Synthesis gwrthfiotig
- gwrthfiotigau lactam (fel penisilin a cephalosporin): Mae HMDS yn amddiffyn grwpiau hydrocsyl neu amino trwy silaneiddio, gan atal canolraddau allweddol rhag dadelfennu o dan amodau tymheredd asidig neu uchel. Er enghraifft, wrth synthesis gwrthfiotigau cephalosporin, mae HMDS yn amddiffyn y grŵp hydrocsyl o 7-asid aminocephalosporanig (7-ACA), gan gynyddu'r cynnyrch adwaith o 65% i 89% tra'n lleihau cynhyrchu sgil-gynhyrchion.
Gwrthfiotigau aminoglycoside (fel amikacin a kanamycin): Mae HMDS yn amddiffyn y grŵp amino i sicrhau sefydlogrwydd y llwybr adwaith. Yn y synthesis o amikacin, cynyddodd cyflwyno HMDS burdeb y canolradd o 92% i 98%, gan wella effeithlonrwydd cynhyrchu ar raddfa fawr yn sylweddol.
cyffuriau antineoplastig
Fluorouracil (5-FU): Mae HMDS yn amddiffyn y grwpiau hydroxyl o ganolraddau cyffuriau trwy silaneiddio, gan leihau adweithiau ochr ocsideiddiol. Mae data arbrofol yn dangos, ar ôl defnyddio HMDS, bod camau synthesis fluorouracil wedi'u symleiddio o 7 cam i 4 cam, cynyddodd y cynnyrch o 58% i 76%, a chyrhaeddodd y purdeb 99.5%.
Cludwr cyffuriau wedi'u targedu: Defnyddir HMDS purdeb uchel i addasu wyneb liposomau neu nanoronynnau polymer, gan wella biocompatibility a thargedu. Er enghraifft, mae croniad cludwyr cyffuriau gwrth-ganser wedi'u haddasu mewn meinweoedd tiwmor yn cynyddu deirgwaith, ac mae gwenwyndra systemig yn cael ei leihau 40%.
cyffuriau gwrthfeirysol
Azvudine: Mae HMDS yn lleihau'r risg o gynhyrchu amhuredd wrth syntheseiddio canolraddau cyffuriau gwrthfeirysol newydd trwy adweithiau amddiffynnol aml-gam. Mae astudiaethau rhag-glinigol wedi dangos bod cyflwyno HMDS yn lleihau cynnwys amhuredd canolradd o 2.1% i 0.3%, gan gefnogi cynhyrchu ar raddfa fawr gyda chynhwysedd blynyddol o dros 50 tunnell.
Diwydiant lled-ddargludyddion: yr "arbenigwr bondio" o dechnoleg ffotolithograffeg
Yn y maes lled-ddargludyddion,Hexamethyldisilazane(HMDS), fel asiant bondio ar gyfer etchants llun, yn gwella cywirdeb gweithgynhyrchu sglodion trwy dechnoleg addasu wyneb, gan gyfrif am 20% o geisiadau. Ei fecanwaith gweithredu craidd yw:
Triniaeth hydrophobicity arwyneb
Mae HMDS yn cael ei chwistrellu ar wyneb wafferi silicon mewn cyfnod hylif neu nwy, ac mae'r bond nitrogen silicon yn cyddwyso â'r grŵp hydroxyl silicon (- Si OH) i ffurfio haen nitrid silicon hydroffobig (mae ongl cyswllt yn cynyddu o 20 gradd i 120 gradd), sy'n cynyddu'r adlyniad rhwng y photoresist a'r wafer silicon o dair gwaith, lleihau dyfnder y pensiyn ac ati dair gwaith, a lleihau'n sylweddol y dyfnder penyd 8%, ac ati. yn gwella'r ymwrthedd cyrydiad.
Cymwysiadau cynnyrch gradd electronig
Mae HMDS gradd electronig (purdeb Yn fwy na neu'n hafal i 99.999%) wedi'i ddefnyddio'n eang mewn meysydd fel arddangosfeydd panel gwastad a gweithgynhyrchu sglodion. Er enghraifft, mewn prosesu wafferi 12 modfedd, mae prosesu HMDS yn lleihau'r gyfradd stripio ffotoresist o 15% i 3%, yn rheoli unffurfiaeth lled llinell o fewn ± 2nm, ac yn cefnogi prosesau o 5nm ac is.
Deunyddiau Organosilicon: addaswyr allweddol ar gyfer gwella perfformiad
Mae HMDS yn cyfrif am 3% o'r cais ym maes organosilicon, a dyma'r ychwanegyn craidd ar gyfer optimeiddio priodweddau deunyddiau megis rwber silicon, olew silicon, a resin silicon
Atgyfnerthu rwber silicon
Mae HMDS, fel asiant selio, yn adweithio â'r grwpiau hydrocsyl ar ddiwedd y gadwyn moleciwlaidd rwber silicon trwy fondiau nitrogen silicon i ffurfio strwythur croes-gysylltiedig sefydlog. Mae arbrofion wedi dangos bod ychwanegu 2% HMDS i rwber silicon yn cynyddu ei gryfder rhwygo 40%, yn ehangu ei ystod ymwrthedd tymheredd o -50 gradd i 200 gradd i -80 gradd i 250 gradd, ac yn lleihau ei set gywasgu 50%.
Triniaeth hydroffobig o olew silicon
Mae HMDS yn adweithio â'r grwpiau silanol ar wyneb nwy-cyfnod carbon gwyn du i ffurfio haen silazane hydroffobig, gan gynyddu ongl gyswllt olew silicon o 30 gradd i 150 gradd a lleihau'r amser defoaming 60%. Fe'i defnyddir yn eang mewn haenau, colur a meysydd eraill.
Ychwanegyn iraid tymheredd uchel
Mae HMDS yn cyfuno â moleciwlau olew iro i ffurfio ffilm amddiffynnol, gan leihau anweddolrwydd 30%, gan ymestyn y cyfnod sefydlu ocsideiddio 2 waith, a chynyddu sefydlogrwydd thermol i 300 gradd. Mae'n addas ar gyfer -amgylcheddau tymheredd uchel megis peiriannau awyrennau.
Triniaeth arwyneb materol: "prif allwedd" ar gyfer addasiad swyddogaethol
Mae HMDS yn cyflawni optimeiddio perfformiad trwy gyddwyso grwpiau hydroxyl ar wyneb deunyddiau anorganig trwy fondiau nitrogen silicon, gyda chyfran gymhwyso o 8%
Prosesu deunydd powdr
Du carbon gwyn: Ar ôl triniaeth HMDS, gostyngodd yr arwynebedd arwyneb penodol o 200m ²/g i 180m ²/g, gostyngwyd y ffenomen crynhoad 70%, a gwellwyd gwasgaredd rwber yn sylweddol.
Powdr titaniwm: Mae triniaeth hydrophobicity arwyneb yn lleihau cyfradd setlo powdr titaniwm mewn toddyddion organig 90%, gan ei gwneud yn addas ar gyfer paratoi powdr metel argraffu 3D.
Addasiad ffabrig ffibr
Mae triniaeth HMDS o ffibrau carbid silicon yn ffurfio haen amddiffynnol nitrid silicon, gan gynyddu ymwrthedd gwres y ffibr o 1200 gradd i 1500 gradd a chyfradd cadw cryfder o 65% i 85%. Fe'i defnyddir yn eang mewn deunyddiau cyfansawdd awyrofod.
Hexamethyldisilazane(HMDS)yn cyfrif am 5% ym maes synthesis organig, ac mae ei gymwysiadau craidd yn cynnwys:
Synthesis o Monomer Chlorosilane
Mae HMDS yn cael adwaith cyfnewid clorin â chlorosilanes (fel octamethylcyclotetrasiloxane) i gynhyrchu polysilazane, gyda chynnyrch 20% yn uwch a gostyngiad o 30% yn y defnydd o ynni o'i gymharu â dull amonia uniongyrchol. Mae'n ddull pwysig ar gyfer paratoi rhagflaenwyr ceramig.
Lleihäwr cynffon cromatograffaeth nwy
Fel hylif sefydlog, mae HMDS yn lleihau gweithgaredd arsugniad wyneb y cludwr, yn cynyddu cymesuredd brig 40%, ac yn lleihau'r terfyn canfod i 0.1 ppm. Fe'i defnyddir yn eang mewn monitro amgylcheddol, dadansoddi cyffuriau, a meysydd eraill.
Paratoi Samplau Microsgop Electron
Mae HMDS, fel desiccant pwynt critigol, yn disodli dadhydradiad ethanol traddodiadol, yn lleihau crebachu sampl 80%, yn cadw uwch-strwythur celloedd, ac yn cael ei ddefnyddio'n helaeth mewn ymchwil biofeddygol.
Mae pum prif broses synthetig ar gyfer y cynnyrch hwn:
1. Mae trimethylsilane yn adweithio ag amonia o dan gatalysis Pt neu Pd. Mae'r tymheredd adwaith yn uchel ac mae'r offer yn llym. Mae'r cynnyrch hyd at 95.8%.
2. Mae trimethylchlorosilane yn cael ei baratoi o trimethylchlorosilane trwy adweithio ag amonia mewn toddydd anadweithiol a chywiro.
3. Gyda hexamethyldisiloxane fel deunydd crai, mae'n adweithio ag asid sylffwrig crynodedig i gynhyrchu sylffad silicon, ac mae sylffad silicon yn adweithio â hydrogen clorid i gynhyrchu trimethylchlorosilane, ac yna'n pasio amonia i baratoi HMDS.
4. Mae hexamethyldisiloxane yn adweithio â pentoxide ffosfforws neu asid ffosfforig i baratoi ffosffad silicon, ac yna'n mynd i mewn i amonia i baratoi HMDS.
5. Mae HMDS yn cael ei baratoi gan adwaith hexamethyldisiloxane ac asid sylffwrig crynodedig i gynhyrchu sylffad silicon yn uniongyrchol trwy nwy amonia.
Ar hyn o bryd, defnyddir yr ail ddull yn bennaf ar gyfer cynhyrchu diwydiannol o HMDS yn Tsieina. Mae'r dull hwn yn cymryd trimethylchlorosilane fel deunydd crai, yn adweithio ag amonia mewn toddydd anadweithiol, ac yna'n cael ei baratoi trwy ddistylliad.
Dull 1:
Ychwanegwch 630ml trimethylchlorosilane, 250ml hexamethyldisiloxane, bensen 500ml a xylene 500ml i mewn i'r adweithydd gyda agitator, thermomedr a mesurydd pwysau, a'i droi'n gyfartal. Mae'r nwy amonia yn cael ei gyflwyno ar gyfer adwaith amonia, ac mae'r newid mewn cyflwr materol yn y fflasg yn cael ei arsylwi'n ofalus yn ystod y broses o gyflwyno nwy amonia. Rheoli cyfradd llif nwy amonia yn llym, ac ni ddylai'r gyfradd adwaith fod yn rhy gyflym i atal gronynnau halen rhag lapio trimethylchlorosilane. Rheoli tymheredd adwaith Llai na neu hafal i 80 gradd a phwysedd adwaith Llai na neu hafal i 0.2Mpa. Ar ôl yr adwaith amonia, oeri'r deunydd i 35 gradd ac ychwanegu 800ml o ddŵr ar gyfer y golchi dŵr cyntaf. Ar ôl golchi, sefyll am 5 munud a thynnu'r hydoddiant dyfrllyd NH4Cl yn yr haen isaf fesul cam. Ychwanegu 400ml o hydoddiant potasiwm hydrocsid 30% i olchi'r cyfnod organig. Ar ôl golchi, gadewch iddo sefyll am 5 munud, ac yna gwahanwch y cyfnod dyfrllyd isaf. Mae'r cyfnod organig yn cael ei olchi â 800ml o ddŵr am yr eildro. Ar ôl gwahanu cyfnod, mae'r deunydd uchaf yn HMDS crai. Yn ystod y broses olchi, y dŵr golchi ar gyfer y golchiad cyntaf fydd y dŵr golchi ar gyfer yr ail olchi ar ôl golchi alcali. Anfonir y cynnyrch crai i'r tŵr distyllu i wahanu'r toddydd adwaith a'r cynnyrch, ac yn olafhecsamethyldisilazanegyda chynnwys Ceir mwy na neu hafal i 99% gyda chynnyrch o 89.99%.
Dull 2:
Mae dull ar gyfer paratoi hexamethyldisiloxane o hexamethyldisiloxane yn cynnwys y camau canlynol:
1) Rhowch 1000kg hexamethyldisiloxane i mewn i lestr adwaith gyda chynhwysedd o 1500L, bwydo nwy hydrogen clorid sych i'r llong adwaith ar gyfer adwaith, a chynhyrchu trimethylchlorosilane a dŵr; Mae'r pwysau yn y llong adwaith yn cael ei reoli tua 0.2MPa, mae'r tymheredd yn 30 gradd, a'r cyflymder troi yn y llong adwaith yw 65r/min. Yn ystod yr adwaith, mae'r dŵr a gynhyrchir yn cael ei ollwng o waelod y llong adwaith.
Pan fydd màs trimethylchlorosilane yn yr ateb cymysg o hexamethyldisiloxane a trimethylchlorosilane yn y llestr adwaith uchod yn cyfrif am 30% o fàs yr ateb cymysg, rhoi'r gorau i basio nwy hydrogen clorid, ac mae'r adwaith yn dod i ben.
2) Trosglwyddwch y cymysgedd o hexamethyldisiloxane a trimethylchlorosilane a gafwyd uchod i adweithydd arall â chynhwysedd o 3000L a'i droi. Llenwch yr adweithydd ag amonia sych i gynhyrchu hexamethyldisiloxane ac amoniwm clorid. Mae'r pwysau yn yr adweithydd tua 0.25MPa, y tymheredd yw 35 gradd, a'r amser adwaith yw 5h.
3) Mae'r amoniwm clorid yn y cynnyrch adwaith yng ngham 2) yn cael ei wahanu trwy'r trwchwr gwahanu amoniwm clorid, ac yna mae'r gweddillion yn cael eu cywiro i gael gwared ar hexamethyldisiloxane i gael o'r diweddhecsamethyldisilazane(HMDS).
Tagiau poblogaidd: hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3, cyflenwyr, gweithgynhyrchwyr, ffatri, cyfanwerthu, prynu, pris, swmp, ar werth